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SED-ZWMJ3-G
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SED-ZWMJ3-G
SED · SED-ZWMJ3-G · Destacado

SED-ZWMJ3-G — UV Laser Inkjet / Marking Machine

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SED-ZWMJ3-G 3W UV laser inkjet/marking machine. 355 nm intra-cavity tripled laser, average output >3W @ 30 kHz, pulse repetition 30–150 kHz, pulse width <13 ns, M²<1.2, 10,000 mm/s digital galvo scan speed, F=160 mm fiel

Plazo de entrega
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Capacidad de producción
10000 mm/s

Funcionamiento

Diode-pumped solid-state laser frequency-tripled to 355 nm produces short UV pulses; high-speed digital galvanometers steer the beam through an F=160 mm field lens onto the workpiece, where short-wavelength photons directly break molecular bonds (cold ablation), producing a precise high-contrast mark with negligible heat-affected zone. A 2000-line encoder and photoelectric trigger (optional) enable flying inline coding. Dual-loop water chiller maintains laser temperature at ±0.2°C for long-term stability. Red-laser 2-point focus assist and coaxial alignment laser for accurate setup.

Proceso de funcionamiento
1Diode-pumped solid-state laser frequency-tripled to 355 nm produces short UV pulses; high-speed digital galvanometers steer the beam through an F=160 mm field lens onto the workpiece, where short-wavelength photons directly break molecular bonds (cold ablation), producing a precise high-contrast mark with negligible heat-affected zone.
2A 2000-line encoder and photoelectric trigger (optional) enable flying inline coding.
3Dual-loop water chiller maintains laser temperature at ±0.2°C for long-term stability.
4Red-laser 2-point focus assist and coaxial alignment laser for accurate setup.

Especificaciones técnicas

Especificaciones de la variante: SED-ZWMJ3-G

Especificaciones

Modelo
SED-ZWMJ3-G
Capacidad de producción
10000 mm/s
Tensión
220V 50Hz 1Φ

Materiales

Materiales del cuerpo
All-aluminum chassis with anodised surface

Características principales

355 nm UV cold-laser marking
Intra-cavity tripling technology — extremely small focused spot
M²<1.2 high beam quality
10,000 mm/s high-speed digital galvo
100×100 mm marking area
Min line width 0.01 mm; min character 0.2 mm
Dual-loop water cooling ±0.2°C temperature control
All-aluminum anodised housing, corrosion-resistant
Touchscreen control — text / graphics / logo / 1D / 2D barcode
Manual lift mechanism: 700–1300 mm vertical, 0–200 mm fore-aft
Optional encoder & photoelectric trigger for inline production lines
LD average service life >20,000 hours
Cold UV laser — no thermal damage on heat-sensitive packaging
Sub-0.01 mm line width for ultra-fine marking
Dual-loop chiller stabilises laser at ±0.2°C
Pairs with encoder and photoelectric trigger for inline coding

Aplicaciones

Marking packaging bottles for cosmetics, pharma, and food
Flexible PCB marking and scribing
Silicon wafer micro-via and blind-via drilling
LCD glass 2D-code marking and glass instrument drilling
Metal surface plating layer marking, rubber keypads, electronic components

Sectores

Farmacéutico
Food
Cosméticos
Electronics (PCB, wafer, LCD)
Envasado

Marcas de componentes

Galvo
Bairuitong,10 mm
Field lens
Custom F=160 mm
Chiller
Teyu
SED
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Consulte el horario y la disponibilidad del equipo

Documentación

Ficha técnica (PDF)
Resumen del equipo, especificaciones y dimensiones · Documento original (inglés)
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Manual del operador
Instalación, funcionamiento y diagnóstico · Documento original (inglés)
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Ficha comparativa (Estándar y Económica)
Comparación de configuraciones · Documento original (inglés)
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Protocolos IQ / OQ / PQ
Documentación de validación para conformidad GMP · Documento original (inglés)
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Protocolos FAT / SAT
Pruebas de aceptación en fábrica y en sitio · Documento original (inglés)
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Planos CAD (STEP / IGES / DWG)
Planos de ingeniería para la instalación · Documento original (inglés)
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Certificados de calibración
Nivel sonoro, resistencia de tierra, rigidez dieléctrica y rugosidad · Documento original (inglés)
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DQ (cualificación del diseño)
Protocolo completo de cualificación del diseño · Documento original (inglés)
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Certificados de materiales
Composición del acero inoxidable 316L · Documento original (inglés)
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SED
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